資訊

NEWS

當前位置:首頁 >  公司新聞 >  受熱是否均勻是提高蒸發源質量的重要技術

2019年07月17日

受熱是否均勻是提高蒸發源質量的重要技術

在真空鍍膜過程中,需要通過蒸發源將蒸鍍材料蒸發(或升華)為蒸汽,蒸汽在待蒸鍍物體表面凝結后形成膜層。因此,蒸發源產生的蒸汽是否均勻,對所形成的膜層的質量是十分重要的。蒸發源通常為“線源”形式,其包括長條形的腔室,腔室頂部均勻開設有多個出氣孔,底部則連接坩堝,坩堝用于盛放蒸鍍材料并將其蒸發,產生的蒸汽進入腔室后并從噴嘴排出。

成膜質量與蒸鍍的溫度、速率有直接聯系。要得到均勻的膜層,就需要蒸鍍材料受熱均勻。而目前產線在用的蒸發源導致坩堝溫度分布不均主要原因有:加熱絲變形,坩堝放置偏位、坩堝周圍熱反射受熱變形等導致的熱傳導環境發生改變。 綜上所述,現有技術的蒸發源,坩堝受熱不均勻,使得蒸鍍腔室內的蒸鍍材料受熱不均勻,成膜質量欠佳,進而難以生產出高品質的OLED顯示面板。

所以,也導致目前很多手機的OLED顯示屏要比LCD顯示屏貴出很多倍,這也很可能是其中一個原因,所以說蒸發源技術也需要不斷創新變化發展,如果單從受熱均勻這塊說,也是很可能生產出高品質的OLED顯示屏的。

竞博 JBO体育| JBO体育| 电竞竞博| JBO竞博| 官网竞博| 竞博官网下载| 电竞竞博| 官网竞博| JBO体育| JBO| 竞博官网下载| 竞博app官方下载| JBO电竞| 官网竞博|